QG-300 气－固反应及表面分析测试系统
一、主要用途: 设备集成了飞行时间二次离子质谱TOF-SIMS、离子清洗、超高真空、四极质谱、气相色谱、高压氢、气体纯化等表面分析、气体处理与分析技术，用于纯化供实验研究用的氢同位素和惰性气体，研究气体压力从10-6Pa～20MPa范围之内的气固反应，特别是对于研究材料表面与氢同位素相互作用机理，以及在开发具有某些特殊性能的新型储氢材料中，发挥重要的作用。二、技术指标：1.进、出样室：Φ300
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一、主要用途:
设备集成了飞行时间二次离子质谱TOF-SIMS、离子清洗、超高真空、四极质谱、气相色谱、高压氢、气体纯化等表面分析、气体处理与分析技术，用于纯化供实验研究用的氢同位素和惰性气体，研究气体压力从10-6Pa～20MPa范围之内的气固反应，特别是对于研究材料表面与氢同位素相互作用机理，以及在开发具有某些特殊性能的新型储氢材料中，发挥重要的作用。
二、技术指标：
1. 进、出样室：Φ300×300（mm）不锈钢结构；极限真空度：2×10-5Pa；
2. 清洁室：Φ400mm球型不锈钢结构；极限真空度：6×10-8Pa；
3. 溅射清洗离子枪：进行固体表面材料的清洗、剥离；离子能量：0.05～5Kev；束流密度：最大20mA/cm2；束斑直径：≤20mm2；
4. TOF-SIMS：对样品进行深度、面、微区组份分析，质量范围：1～2000，对氢元素有很高的检测能力，1～100amu范围内质量分辨率大于5000（FWHM）； 能进行深度分析及三维成像,深度分辨率优于1nm，剖析深度0.5nm；
5. 四极质谱：1～200amu，可探测分压下限10-11Pa；
6. 气固室：Φ400mm球型不锈钢结构；极限真空：6×10-8Pa；工作压力：10-5Pa～105Pa；
7. 计算机数据采集管理系统:具有对温度、真空度、压力等数据进行采集存储、显示及后处理功能。
三、设备组成:
主要由二次飞行时间质谱(TOF-SIMS)、1403氩枪、EX03氩枪、CCD成像系统、四极质谱、进样室、清洁室、气固反应室、出样室、样品库、磁力送样机构、高温样品台、真空抽气系统、真空测量系统、数据采集与分析系统等组成。
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