PQ –Ⅲ 二孔位金属陶瓷管超高真空排气台
PQ–Ⅲ 二孔位金属陶瓷管超高真空排气台一、主要用途：本设备主要用于金属陶瓷结构射线管的排气。二、技术指标：1.金属陶瓷结构射线管内真空：5.0×10-8Pa；系统漏率：5.0×10-7PaL/S；2.系统：双金属陶瓷结构射线管抽气方式，分别实现双金属陶瓷结构射线管超高真空，且双金属陶瓷结构射线管真空相对独立但不同时工作；3.每个金属陶瓷结构射线管外置一个烘箱（烘箱甲方自备），烘箱温度为550℃。
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PQ–Ⅲ 二孔位金属陶瓷管超高真空排气台
一、主要用途：本设备主要用于金属陶瓷结构射线管的排气。
二、技术指标：
1. 金属陶瓷结构射线管内真空：5.0×10-8Pa；系统漏率：5.0×10-7PaL/S；
2. 系统：双金属陶瓷结构射线管抽气方式，分别实现双金属陶瓷结构射线管超高真空，且双金属陶瓷结构射线管真空相对独立但不同时工作；
3. 每个金属陶瓷结构射线管外置一个烘箱（烘箱甲方自备），烘箱温度为550℃。乙方设计加工加热电源，控温精度±1℃；
4. 真空管：排气容积5L，轮廓尺寸Φ180×400mm；
5. 放气有过滤装置，防止不洁气体污染真空系统。
三、系统组成：本装置主要由真空抽气及测量系统、抽气管道及烘烤系统、加热及控温系统、电器控制系统和辅助系统等组成。
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