磁控溅射镀膜机设备
一、主要技术要求： 1、真空度指标： 1.1、保证真空室极限真空度≤6.0×10-5 Pa。 1.2、系统漏率：≤5.0×10-8 PaL/S。 1.3、真空抽气机组：采用分子泵作为主抽泵，机械泵作为前级泵，配有真空计、阀门以及管道，组成真空抽气系统。 2、压力控制：实现镀膜过程中气压在0.1～3.0 Pa范围内的有效调节。 3、磁控靶及电源系统：
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一、主要技术要求：
1、真空度指标：
1.1、保证真空室极限真空度≤6.0×10-5 Pa。
1.2、系统漏率：≤5.0×10-8 PaL/S。
1.3、真空抽气机组：采用分子泵作为主抽泵，机械泵作为前级泵，配有真空计、阀门以及管道，组成真空抽气系统。
2、压力控制：实现镀膜过程中气压在0.1～3.0 Pa范围内的有效调节。
3、磁控靶及电源系统：
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