fs激光真空腔体/ ns激光真空腔体
fs激光真空腔体技术指标及要求：a)在满负荷(包括真空)条件下，各个真空腔体最大变形不大于0.5mm；b)在周围环境振动输入为1×10-10g2/Hz(1～200Hz)的条件下：各法兰外端面和各个真空腔体内光学平台最大位移不大于5.0μm/2h，最大旋转不大于1.0μrad/2h；c)各个真空腔体所有指向靶心法兰中心轴线偏离实际中心小于1mm，顶盖所有指向靶心法兰中心轴线偏离实际中心小于2mm；d
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详细介绍
fs激光真空腔体技术指标及要求：
a) 在满负荷(包括真空)条件下，各个真空腔体最大变形不大于0.5mm；
b) 在周围环境振动输入为1×10-10g2/Hz(1～200Hz)的条件下：各法兰外端面和各个真空腔体内光学平台最大位移不大于5.0μm/2h，最大旋转不大于1.0μrad/2h；
c) 各个真空腔体所有指向靶心法兰中心轴线偏离实际中心小于1mm，顶盖所有指向靶心法兰中心轴线偏离实际中心小于2mm；
d) 指向靶心法兰到靶室中心的距离在工程设计后确定，但是公差应小于2mm；
e) 各个真空腔体圆柱腔圆度误差小于5mm，靶室中心高度误差小于5mm；
f) 系统真空度：1×10-4Pa(空载条件下1小时内达到)(甲方负责)，漏(放)气率：不大于1×10-9Pa·m3/s。
ns激光真空腔体技术指标及要求：
1. 真空腔体
a) 总体形状：柱体；
b) 内径：Φ340 mm；
c) 高度：430 mm；
d) 壁厚：8 mm；
e) 材料：304不锈钢；
f) 动态真空：10-4 Pa（甲方负责）；
g) 洁净度：百级（甲方负责）；
h) 漏率：1×10-9 Pa·m3/s；
i) 表面处理：电解抛光处理；
j) 密封方式：氟橡胶圈、无氧铜圈；
k) 所有焊接法兰全采用螺纹孔连接；
l) 顶盖：直径390 mm，厚度20 mm。
2. 支架
支撑方式：独立支撑；
高度：与腔体连接后激光入射法兰中心距地1100 mm；
材料：不锈钢。
支架与腔体连接处高度可调，腔体底部安装若干个支杆，用于微调靶室的高度。调节范围：±25mm，具体由厂家设计。
支架底部加加固横梁。支撑腿的宽度不小于70mm。
支架外形尺寸：外尺寸不大于440 mm×440mm，里尺寸不小于280 mm×280mm；
真空腔体及支架的外形设计如图1，靶室底座波纹管连接，侧面为法兰。一共有22个法兰，按功能分为三层，由上往下依次为观 察、光路面和抽放气功能法兰。
上层法兰和中层法兰均指向靶心，下层法兰指向垂直靶室腔体壁（即水平指向）。
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