靶室系统
一、设备用途：本系统为单室高真空靶室系统。二、设备主要技术指标：1、真空室：不锈钢材料，立式圆筒型结构，内部尺寸约：φ250×400（mm）；2、材料选择适合UHV要求不锈钢等材料，并对材料真空除气。3、极限真空度：≤6.7×10-7mbar（甲方自测）； 系统总体漏率：1×10-7PaL/S； 4、系统支架采用型钢焊接结构，开放式结构，底部安装金属脚轮，既可
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一、设备用途：本系统为单室高真空靶室系统。
二、设备主要技术指标：
1、真空室：不锈钢材料，立式圆筒型结构，内部尺寸约：φ250×400（mm）；
2、材料选择适合UHV要求不锈钢等材料，并对材料真空除气。
3、极限真空度：≤6.7×10-7mbar（甲方自测）；
系统总体漏率：1×10-7PaL/S；
4、系统支架采用型钢焊接结构，开放式结构，底部安装金属脚轮，既可以移动，又可调整高度；台架内部安装分子泵等；
5、靶室正中心的位置距离地面高度为100cm；
6、靶室采用上盖开启结构（螺栓固定连接），真空室上盖同真空室采用无氧铜圈密封，CF250法兰接口。
7、整套系统全部无氧铜圈密封。
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