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PLD真空系统

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详细介绍

一、技术指标
1、激光溅射沉积室,极限真空度优于:6.6×10-5Pa;工作真空度:一小时内从大气抽到8×10-4Pa;系统漏率为:1×10-7PaL/s。                          
2、样品架可加热,样品安装快捷方便,加热温度,样品多片很小,采用粘接方式固定。
3、激光靶材共四块,采用压环式结构,四块靶材可公转换位同时靶材可自转,自转速度为:0~60转/分,连续旋转。
4、真空抽气系统主要由主泵采用复合分子泵、机械泵真空管道、阀门、真空计等组成。
5、激光溅射沉积室尺寸:SФ450球型结构,真空室外表面带有水冷槽,真空室上开有连接四工位靶台、样品活开门、样品架、激光窗口、真空闸板阀、气路阀等法兰接口。
二、设备组成
该设备由加热炉、真空内部转动组件、样品台平移机构、安装法兰等组成。
 
 

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