特种薄膜制备设备
主要技术指标：1、整体结构：系统采用单室立式圆筒形真空室，手动铰链前开门结构，不锈钢材料。2、真空度：系统极限真空度：≤5×10-5Pa；系统漏率：≤1×10-7Pa.L/S。3、抽速：分子泵正常工作40分钟后，系统真空度达到7×10-4Pa。4、抽气系统：配有国产分子泵及机械泵构成真空抽气系统，并配有阀门、真空计等。5、磁控靶及电源：5.1、磁控靶两套。5.2、电源：国产射频电源一台；国产直流电源DC一台。6、样品台系统：具有加热、旋转功能。6.1、样品尺寸：一工位可加热旋转样品台一套；最大可放置φ50mm的样品一个。6.2、样品台最高加温温度为600℃，程序控温。 6.3、样品实现自转。 7、工艺气体：两路进气，分别用质量流量控制器控制进气流量。8、真空室内设置有衬板，避免溅射材料直接溅射到真空腔室内壁上。9、设备具有断水断电联锁保护功能。
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详细介绍
主要技术指标：
1、整体结构：系统采用单室立式圆筒形真空室，手动铰链前开门结构，不锈钢材料。
2、真空度：系统极限真空度：≤5×10-5Pa；系统漏率：≤1×10-7Pa.L/S。
3、抽速：分子泵正常工作40分钟后，系统真空度达到7×10-4Pa。
4、抽气系统：配有国产分子泵及机械泵构成真空抽气系统，并配有阀门、真空计等。
5、磁控靶及电源：
5.1、磁控靶两套。
5.2、电源：国产射频电源一台；国产直流电源DC一台。
6、样品台系统：具有加热、旋转功能。
6.1、样品尺寸：一工位可加热旋转样品台一套；最大可放置φ50mm的样品一个。
6.2、样品台最高加温温度为600℃，程序控温。
6.3、样品实现自转。
7、工艺气体：两路进气，分别用质量流量控制器控制进气流量。
8、真空室内设置有衬板，避免溅射材料直接溅射到真空腔室内壁上。
9、设备具有断水断电联锁保护功能。
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