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薄膜传感器制备设备

主要技术指标：1.磁控溅射（离子源沉积）镀膜设备技术指标：满足样品尺寸：长250mm×宽200mm×厚150mm；有效镀膜区域：150mm×100mm；极限真空：小于7.0×10-5Pa（环境湿度≤55%）；真空室漏气率：≤5.0×10-8Pa·L/s；抽气速率：系统短时间暴露大气并充干燥N2开始抽气，分子泵正常工作后溅射室60分钟可达到8.0×10-4Pa；真空获得系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；气路：三路气路，包含氩气、氧气、氮气；满足溅射材料：金属、合金等导电材料，特别是Al、NiCrAlY、NiCr/NiSi、Pt/PtRh等材料；溅射靶：磁控溅射靶两只；溅射不均匀性：≤±5%（150mm×100mm范围内）；工件台旋转：转速1~35rpm可调；样品加热：样品表面温度可达600℃，自动测温、控温，多段控温模式。2.电子束蒸发镀膜设备技术指标满足样品尺寸：长250mm×宽200mm×厚150mm；有效镀膜区域：150mm×100mm；极限真空：小于7.0×10-5Pa（环境湿度≤55%）；真空室漏气率：≤5.0×10-8Pa·L/s；抽气速率：系统短时间暴露大气并充干燥N2开始抽气，分子泵正常工作后真空室60分钟可达到8.0×10-4Pa；满足蒸发材料：Al2O3等绝缘材料；蒸发溅射不均匀性：≤±6%（平面样品150mm×100mm范围内）；离子源：出口束径不小于Φ150mm，满足清洗和辅助沉积功能；气路两路，可控制O2、Ar2；件台旋转：可自转，转速1~35rpm可调；样品加热：样品最高可达800℃，自动测温、控温，多段控温模式；在线膜厚监测系统：监测厚度显示范围：0~99μ9999Å，厚度显示分辨率：1Å，速率显示范围：0~9999.9Å，速率显示分辨率：0.1Å。

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产品分类：

磁控溅射镀膜系统

高真空电子束蒸发/磁控溅射镀膜系统

电话：

024-23758583

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详细介绍

主要技术指标：
1.磁控溅射（离子源沉积）镀膜设备技术指标：
  • 满足样品尺寸：长250mm×宽200mm×厚150mm；
  • 有效镀膜区域：150mm×100mm；
  • 极限真空：小于7.0×10-5Pa（环境湿度≤55%）；
  • 真空室漏气率：≤5.0×10-8Pa·L/s；
  • 抽气速率：系统短时间暴露大气并充干燥N2开始抽气，分子泵正常工作后溅射室60分钟可达到8.0×10-4Pa；
  • 真空获得系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
  • 气路：三路气路，包含氩气、氧气、氮气；
  • 满足溅射材料：金属、合金等导电材料，特别是Al、NiCrAlY、NiCr/NiSi、Pt/PtRh等材料；
  • 溅射靶：磁控溅射靶两只；
  • 溅射不均匀性：≤±5%（150mm×100mm范围内）；
  • 工件台旋转：转速1~35rpm可调；
  • 样品加热：样品表面温度可达600℃，自动测温、控温，多段控温模式。
2.电子束蒸发镀膜设备技术指标
  • 满足样品尺寸：长250mm×宽200mm×厚150mm；
  • 有效镀膜区域：150mm×100mm；
  • 极限真空：小于7.0×10-5Pa（环境湿度≤55%）；
  • 真空室漏气率：≤5.0×10-8Pa·L/s；
  • 抽气速率：系统短时间暴露大气并充干燥N2开始抽气，分子泵正常工作后真空室60分钟可达到8.0×10-4Pa；
  • 满足蒸发材料：Al2O3等绝缘材料；
  • 蒸发溅射不均匀性：≤±6%（平面样品150mm×100mm范围内）；
  • 离子源：出口束径不小于Φ150 mm，满足清洗和辅助沉积功能；
  • 气路两路，可控制O2、Ar2；
  • 件台旋转：可自转，转速1~35rpm可调；
  • 样品加热：样品最高可达800℃，自动测温、控温，多段控温模式；
  • 在线膜厚监测系统：监测厚度显示范围：0~99μ9999Å，厚度显示分辨率：1 Å，速率显示范围：0~9999.9 Å，速率显示分辨率：0.1 Å。

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