光栅沉积真空系统
1、系统真空度：沉积室系统的极限真空：1.0x10-5Pa；样品存放室系统极限真空：1.0x10-4Pa；沉积室工作真空度：从暴露大气开始抽真空，30分钟后，沉积室工作真空度优于2x10-4Pa；样品存放室工作真空度：从暴露大气开始抽真空，30分钟后，样品存放室工作真空度优于1x10-3Pa；系统漏率：1x10-7PaL/S；2、镀膜方式：2.1、每次只镀一个长条形样品；2.2、磁控靶安装在真空室
关键词：
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详细介绍
1、系统真空度：
沉积室系统的极限真空：1.0x10-5Pa；
样品存放室系统极限真空：1.0x10-4Pa；
沉积室工作真空度：从暴露大气开始抽真空，30分钟后，沉积室工作真空度优于2x10-4Pa；
样品存放室工作真空度：从暴露大气开始抽真空，30分钟后，样品存放室工作真空度优于1x10-3Pa；
系统漏率：1x10-7PaL/S；
2、镀膜方式：
2.1、每次只镀一个长条形样品；
2.2、磁控靶安装在真空室侧面，垂直水平面放置，水平溅射镀膜；
3、基片及运动方式：
3.1、基片工件架采用齿条带动工件架结构，样品在磁控靶下扫描镀膜，伺服电机控制其速度，可编程，行进速度可调；
3.2 、基片位置移动精度优于0.5mm；
4、气路系统：
4.1、3路工艺气体，2路 Ar2和1路N2；
4.2、采用质量流量计控制进气。
5、计算机控制样品行进速度及镀膜工艺自动化。
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