高真空电子束蒸发/磁控溅射镀膜系统
主要技术性能指标：1、整体结构： 采用单室立式前开门结构，真空室上面安装六工位样品架，真空室下面向上安装MANTIS迷你电子束蒸发源和一个磁控靶，配有数显复合真空计测量真空，配有两路气体，系统配有进口膜厚测试仪； 真空室安装在开放式铝型材制作的台架上，真空室外表面电解抛光处理。2、真空度及抽气机组： 系统极限真空度≤2×10-5Pa； 系统漏率：1×10-7PaL/S； 真空抽气系统采用
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主要技术性能指标：
真空度及抽气机组：
系统极限真空度≤2×10-5Pa；
系统漏率：1×10-7PaL/S；
真空抽气系统采用分子泵+机械泵抽气机组。
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