磁控溅射设备
1、采用小型单室不锈钢材料；2、溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；3、真空抽气机组：系统配有国产分子泵以及机械泵抽气系统；4、磁控靶及电源：4.1、磁控靶：采用腾鳌真空生产的磁控靶；4.2、电源：直流电源DC：1台；电源采用国产品牌。4.3、靶基距：用光轴加直线轴承导向，可手动连续调节，有刻度指示；4.4、挡板：采用磁流体密封转轴转动密封，手动；5、镀膜方式
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详细介绍
1、采用小型单室不锈钢材料；
2、溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；
3、真空抽气机组：系统配有国产分子泵以及机械泵抽气系统；
4、磁控靶及电源：
4.1、磁控靶：采用腾鳌真空生产的磁控靶；
4.2、电源：
直流电源DC：1台；电源采用国产品牌。
4.3、靶基距：用光轴加直线轴承导向，可手动连续调节，有刻度指示；
4.4、挡板：采用磁流体密封转轴转动密封，手动；
5、镀膜方式：镀膜方式采用单靶溅射成膜；
6、样品台：具有加热、旋转功能；
6.1、样品尺寸：一工位可加热旋转样品台一套；最大可放置Φ50mm的样品一个；
6.2、样品台最高的加温温度为600℃，程序控温；
6.3、样品实现自转；
7、气路：两路进气（Ar、O2），质量流量控制器控制进气；
8、设备具有断水断电连锁保护功能；
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