非平衡磁控溅射镀膜系统
主要技术指标：1、系统真空度：1.1、极限真空度：优于3.0×10-5Pa；1.2、系统漏率：优于1.0×10-7PaL/s；2、样品台系统：样品台共有两种：一种是放置在两组对靶正下方（两套），镀单层膜；一种是放在两组对靶之间，镀多层膜。2.1、单层膜样品台（2套）：2.1.1、样品托尺寸：最大外形尺寸Φ20×10mm；2.1.2、样品台加热温度：加热温度500℃，控温精度：±1℃；2.1.3、样
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主要技术指标：
1、系统真空度：
1.1、极限真空度：优于3.0×10-5Pa；
1.2、系统漏率：优于1.0×10-7PaL/s；
2、样品台系统：
样品台共有两种：一种是放置在两组对靶正下方（两套），镀单层膜；一种是放在两组对靶之间，镀多层膜。
2.1、单层膜样品台（2套）：
2.1.1、样品托尺寸：最大外形尺寸Φ20×10mm；
2.1.2、样品台加热温度：加热温度500℃，控温精度：±1℃；
2.1.3、样品旋转：0～30r/m；
2.1.4、样品台与磁控靶最底部边缘距离：40～100mm；
2.1.5、配置样品挡板，电动操作。
2.2、多层膜样品台：
2.2.1、样品托尺寸：最大外形尺寸Φ20×10mm；
2.2.2、样品台加热温度：加热温度500℃，控温精度：±1℃；
2.2.3、旋转角度：180°，实现样品在两组磁控靶侧面的180°转动换位，计算机控制。
3、磁控靶及电源系统：
3.1、系统配置2英寸非平衡磁控对靶两组（四套）。
3.2、磁控靶电源：两组非平衡磁控靶配有两套6Kw双路输出直流电源；
3.3、磁控靶调节组件：每套磁控靶均配置前后伸缩组件，目的是调节每组对靶之间的间距。靶面间距调整范围：40～100mm。
4、气路系统：系统配置进气气路三个，一路为Ar，N2，O2。
每路气体均配置气体质量流量控制器控制进气流量。
5、薄膜压力规：系统配置进口薄膜压力规一个，带显示仪。
6、系统除多层膜样品镀膜采用计算机控制外，其他采用手电动控制，具有连锁保护功能，系统带有防误操作保护功能。
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