JSS- 600 超高真空复合镀膜系统
JSS-600 超高真空复合镀膜系统 一、系统用途： 设备主要制备单层膜、多层膜和多组份的金属膜、合金膜、氧化物薄膜等。二、技术指标：1.采用双室结构：一个主溅射室（溅射镀膜室）；一个为样品室（样品取放）；2.溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；进样室极限真空度：6.7×10-4Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；3.磁控靶：4英寸磁控靶4个，2英寸磁
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JSS- 600 超高真空复合镀膜系统
一、系统用途：
设备主要制备单层膜、多层膜和多组份的金属膜、合金膜、氧化物薄膜等。
二、技术指标：
1.采用双室结构：一个主溅射室（溅射镀膜室）；一个为样品室（样品取放）；
2.溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；
进样室极限真空度：6.7×10-4Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；
3.磁控靶：4英寸磁控靶4个，2英寸磁控靶1个，标准型永磁靶（非强磁性），水冷；其中1套4英寸磁控靶为强磁靶；
4. 镀膜方式：单层膜、交替多层膜、氧化物薄膜、合金膜，镀膜方式采用五靶共溅射成膜；
5.靶基距：靶表面与样品垂直距离为170mm±20mm，用光轴加直线轴承导向，可手动连续调节，有刻度指示；
6.样品尺寸：一工位可加热旋转样品台一套；最大可放置4英寸的样品一个，有效均匀区为：Φ100mm；
7.样品台最高的加温温度为500℃，程序控温； 升温、恒温、降温时间可控（降温速率小于自然降温速率）；
8.样品实现自转，转速为：0~50转/分；升降：样品台可实现升降，手动调节，升降距离为：±10mm；
9.气路系统：三路进气（（N2、Ar、O2），分别用质量流量控制器控制；
10.溅射镀膜过程采用计算机控制，具有真空度采集功能、确认靶位功能、溅射镀膜时间控制功能、样品自转控制功能、靶挡板开启控制功能、温度---时间控制功能、流量设定和控制功能等控制、靶功率控制功能。
三、系统组成：
本系统为两室结构的超高真空控溅射镀膜设备，主要由真空抽气及测量系统、溅射室系统、靶及电源系统、样品台系统、样品室系统、样品交接与传递系统、气路系统、电控及计算机控制功能、辅助系统等组成。
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