JSD-500Ⅱ磁控溅射镀膜系统
一、系统用途： 系统为单室超高真空多功能磁控溅射镀膜设备，可用于开发单层及多层功能膜各种硬质膜、金属膜、半导体膜、非金属介质膜、磁铁膜和磁控薄膜等材料。二、技术指标：1.真空指标：系统极限真空度6.7×10-6Pa;2.系统结构：Φ500×350（mm）圆形立式不锈钢；3.溅射靶：有效尺寸Φ75磁控靶3台；4.样品台：有效尺寸Φ50mm样品托4个；样品可公转可自转，公转0～20转/分，自转0～2
关键词：
产品分类：
详细介绍
一、系统用途：
系统为单室超高真空多功能磁控溅射镀膜设备，可用于开发单层及多层功能膜各种硬质膜、金属膜、半导体膜、非金属介质膜、磁铁膜和磁控薄膜等材料。
二、技术指标：
1.真空指标：系统极限真空度6.7×10-6Pa;
2.系统结构：Φ500×350（mm）圆形立式不锈钢；
3.溅射靶：有效尺寸Φ75磁控靶3台；
4.样品台：有效尺寸Φ50mm样品托4个；样品可公转可自转，公转0～20转/分，自转0～20转/分；
5.样品清洗：Φ5（cm）离子清洗源一台；
6.烘烤：样片衬底可烘烤，烘烤温度：最高300℃，连续可调；
7.气路系统：两路质量流量计控制，流量范围：流量范围0～100sccm。
8.溅射镀膜过程计算机控制，具有：复位功能、确认靶位功能、溅射镀膜时间控制功能、样品自转公转控制功能、靶的遮挡功能。
三、系统组成：
系统主要由真空获得系统、真空测量系统、真空室、磁控靶及电源系统、磁控靶挡板系统、气路系统、离子清洗源、台架系统、电控及计算机控制系统和样品加热系统等组成。
产品询价
我们将在一个工作日内与您联系。请注意您的电子邮件。
总 机：024-23758583
传 真：024-89422961
市场部（售后）：13840375510/13804984297
邮箱：syta_cl@163.com cla.sy@163.com
地址：沈阳市苏家屯区大淑堡瑰香街83-5号