【SAJSD-500】超高真空多功能磁控溅射设备

一、系统用途：　　用于开发研究单层及多层功能膜和复合膜-各种金属膜、半导体膜、介质膜等。二、系统主要技术指标：1、溅射室：尺寸约Φ450×300mm；蒸发室：Φ258×400mm；材料：304不锈钢；2、溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa,系统漏率：1×10-7PaL/S；蒸发室极限真空度：2×10-4Pa，系统漏率：1×10-6PaL/S；3、分子泵抽气系统两套：一套为FB-620涡轮分子泵

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磁控溅射镀膜系统

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一、系统用途：
　　用于开发研究单层及多层功能膜和复合膜-各种金属膜、半导体膜、介质膜等。

二、系统主要技术指标：
1、溅射室：尺寸约Φ450×300mm；蒸发室：Φ258×400mm；材料：304不锈钢；
2、溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa,系统漏率：1×10-7PaL/S；
蒸发室极限真空度：2×10-4Pa，系统漏率：1×10-6PaL/S；
3、分子泵抽气系统两套：一套为FB-620涡轮分子泵抽气系统；一套为FB-110涡轮分子泵抽气系统；
4、溅射靶：有效尺寸Φ75mm，数量：3支，永磁靶，直流和射频兼容，水冷；
5、溅射靶电源：射频电源一台，功率：500W；直流电源共两台，每台功率：500W；
6、样品尺寸：最大Φ5cm；
7、黄溅射成膜，磁控和蒸发每次抽真空只镀一个样品，样品可自转，自转转速为0～60转/分；
8、溅射镀膜样品加热：最高温度800℃，程序控温，PID调节；
蒸发镀膜样品加热：最高温度300℃，程序控温，PID调节；
9、样品与靶面之间的距离手动可调；
10、气体控制：气体通过三路质量流量计控制（Ar、N2、O2），流量范围：0～100sccm；
11、两个蒸发舟，每个蒸发最大功率为：1.5KW,两套蒸发电源，可同时蒸镀一个样品。

三、系统组成：
　　本系统为双室结构的超高真空多功能磁控溅射蒸发镀膜设备，系统主要由真空抽气系统、真空测量系统、溅射室系统、工件架系统、离子源辅助沉积系统、挡板系统、蒸发室系统、气路系统、电控系统、台架系统等组成。