LJS-1120 离子束溅射镀膜系统
一、系统用途： 主要利用RF离子源溅射原理，镀制光学薄膜。二、技术指标： 1.真空室极限真空度：5×10-5Pa，漏率：小于6.67×10-7Pa.L/S；真空测量:真空测量采用数显复合真 空计,量程：1×105Pa～1×10-5Pa； 2.系统结构：Φ1120×970mm（内部尺寸）圆通立式前开门不锈钢结构； 3.真空室容积约1.1m3； 4.工件架：工件架两套，分别放置Φ200mm样品3个
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详细介绍
一、系统用途：
主要利用RF离子源溅射原理，镀制光学薄膜。
二、技术指标：
1.真空室极限真空度：5×10-5Pa，漏率：小于6.67×10-7Pa.L/S；真空测量:真空测量采用数显复合真空计量程：1×105Pa～1×10-5Pa；
2.系统结构：Φ1120×970mm（内部尺寸）圆通立式前开门不锈钢结构；
3.真空室容积约1.1m3；
4.工件架：工件架两套，分别放置Φ200mm样品3个，Φ500mm样品1个；镀Φ200样品时，自转公转速
度：0～20转/分；镀Φ500时，公转速度：0～10转/分；
5.离子源：溅射离子源一套，辅助离子源一套，中和枪两套；
6.水冷转靶：有效尺寸Φ350；可装3快靶材，120°定位；步进电机带动旋转180°；
7.气路：气路质量流量控制，范围：0～50sccm；重复精度±0.2%，准确度±0.2%；
8.计算机系统：具有控制抽气系统功能、控制气路系统功能、控制样品架旋转及定位功能、控制转靶旋转及定位功能。
三、系统组成：
系统主要由真空获得系统、测量系统、溅射室系统、工件架系统、离子源系统水冷转靶、气路系统、挡板系统、台架系统、烘烤照明系统及电控系统等组成。
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