多功能真空镀膜机
一、设备目的:制备有机发光膜。二、技术要求:1、镀膜室:镀膜腔室尺寸约为Φ400*450mm,不锈钢材料,圆柱形结构,真空室上铰链方门结构。2、抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;2.1、真空度:镀膜室的极限真空≤6×10-5Pa,工作压力≤2*10-3Pa;2.2、系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。3、蒸发源系统:3.1、蒸发源四个,钨舟或者钼舟(甲方自备);蒸发电极五根;3.2、蒸发电源
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详细介绍
一、设备目的:制备有机发光膜。
二、技术要求:
1、镀膜室:镀膜腔室尺寸约为Φ400*450mm,不锈钢材料,圆柱形结构,真空室上铰链方门结构。
2、抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;
2.1、真空度:镀膜室的极限真空≤6×10-5Pa,工作压力≤2*10-3Pa;
2.2、系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
3、蒸发源系统:
3.1、蒸发源四个,钨舟或者钼舟(甲方自备);蒸发电极五根;
3.2、蒸发电源由甲方自备(两台);
3.3、挡板:蒸发源挡板采用电动磁力控制方式,采用开关控制开启;
3.4、安装:蒸发源安装在真空室的下底上,以一定角度正对上方中心样品。
4、样品架系统:
4.1、样品架可放置大小为100mm×100mm的样品,载玻片;
4.2、样品架可旋转,旋转速度为:0~30转/分;
4.3、样品可加热,加热温度为:500℃;
4.4、安装:样品安装在真空室的上盖上,蒸发源安装在真空室的下盖上,向上蒸发镀膜,其中两个蒸发源带有挡板装置。
5、设备带有国产高精度单探头膜厚测试仪安装接口CF35。
6、样品根据镀膜工艺带有掩膜板,根据用户要求,乙方留有安装掩膜板位置,用户自制掩膜板。
7、设备带有样品传递功能。
8、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
9、实验室应配有冷却循环水机,为真空泵、电极、膜厚测试仪冷却。
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