ZF- 450Ⅰ 蒸发镀膜系统（光学镀膜）
一、系统用途：保密。二、技术指标： 1、极限真空度：8×10-6Pa；系统漏率：6.7×10-7Pa.L/S； 2、蒸发源：2个，采用电阻蒸发舟的方式，至下向上蒸发镀膜。蒸发舟与样吕之间的距离为150～200mm； 3、蒸发舟最高温度为:室温～800℃，控温精度：±1℃；室温～1300℃，控温精度：±2℃；功率：1KW； 4、样品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只镀一个样品，样品可旋
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详细介绍
一、系统用途：保密。
二、技术指标：
1、极限真空度：8×10-6Pa；系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
2、蒸发源：2个，采用电阻蒸发舟的方式，至下向上蒸发镀膜。蒸发舟与样品之间的距离为150～200mm；
3、蒸发舟最高温度为:室温～800℃，控温精度：±1℃；室温～1300℃，控温精度：±2℃；功率：1KW；
4、样品尺寸：100×50×（1～2）（厚）毫米，每次只镀一个样品，样品可旋转加热；
5、保证膜的牢固度，样品在蒸镀过程中，要加热到200℃（最高温度）。
三、系统组成：
主要由蒸发源及其电源、真空室、真空测量系统、真空抽气系统、样品台及其挡板系统、控制单元等组成。
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