ZF-450 Ⅱ 蒸发镀膜系统
一、主要用途： 设备主要用于实验室制备各种光学薄膜，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。二、技术指标： 1.系统结构：Φ450×400（mm）（内径）钟罩式双层水冷电动升降结构； 2.极限真空度：3×10-5Pa，系统总漏率：6.7×10-9Pa.L/S； 3.蒸发功率：3KW和1.5KW各一个。蒸发源两个，电阻蒸发舟方式镀膜，蒸发舟与样品之间的距离为150 ～200mm； 4.蒸发源：蒸发舟
关键词：
产品分类：
详细介绍
一、主要用途：
设备主要用于实验室制备各种光学薄膜，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。
二、技术指标：
1. 系统结构：Φ450×400（mm）（内径）钟罩式双层水冷电动升降结构；
2.极限真空度：3×10-5Pa，系统总漏率：6. 7×10-9Pa.L/S；
3.蒸发功率：3KW和1.5KW各一个。蒸发源两个，电阻蒸发舟方式镀膜，蒸发舟与样品之间的距离为150
～200mm；
4.蒸发源：蒸发舟最高加热蒸发温度1500℃；控温精度：室温～800℃时±1℃，800℃～1500℃时
±2℃；
5.最大样品尺寸200mm，样品台可实现自转0～30转/分；
6. 气路系统：气体两路，质量流量计控制，流量范围0～100sccm。
三、系统组成:
设备主要由蒸发源及电源系统、真空室系统、真空获得及测量系统、样品台及挡板系统、控制单元等组成。
产品询价
我们将在一个工作日内与您联系。请注意您的电子邮件。
总 机：024-23758583
传 真：024-89422961
市场部（售后）：13840375510/13804984297
邮箱：syta_cl@163.com cla.sy@163.com
地址：沈阳市苏家屯区大淑堡瑰香街83-5号