ZF-1000镀膜真空系统
一、系统技术指标：1.真空腔的极限真空度要求优于5x10-5Pa，真空腔从分子泵满速开始计时90分钟内达到1x10-3 Pa；2.主体：材质为1Cr18Ni9Ti不锈钢，外腔净尺寸Ф900mm*1300mm；3.腔体内两个蒸发舟，含加热和控温装置，控温精度要求：±2℃程序可控；4.两个蒸发源source分别为：大蒸发源内径为9cm高度为12cm圆柱状蒸发源，小蒸发源内径为2cm高度为2.5cm蒸发
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详细介绍
一、系统技术指标：
1. 真空腔的极限真空度要求优于5x10-5Pa，真空腔从分子泵满速开始计时90分钟内达到1x10-3 Pa；
2. 主体：材质为1Cr18Ni9Ti不锈钢，外腔净尺寸Ф900mm*1300mm；
3. 腔体内两个蒸发舟，含加热和控温装置，控温精度要求：±2℃程序可控；
4. 两个蒸发源分别为：大蒸发源内径为9cm高度为12cm圆柱状蒸发源，小蒸发源内径为2cm高度为2.5cm蒸发源；
5. 大蒸发舟的加热温度为200～800℃；小蒸发舟的加热温度为200～600℃；控温精度为±2℃，程序控温。最大温差：5 ℃，平衡时间：10min，升温速率：1～20℃/min；
6. 两个蒸发源均可在±5cm的范围内水平移动（X/Y方向），用以优化工艺。 小蒸发源装置及蒸发舟的指向（对称轴方向）可在0～20度范围内调节；
7. 工件架：在腔体内保证样品的法线方向与铅垂直方向的夹角在15°-35°之间连续可调；具有公转和自转两种功能，公转架转速（即换位转速）在0～20 转/分钟, 自转架转速在0-60转/分钟之间程序可调；
8. 基片架中心和蒸发源之间的距离为600～760 mm；
9. 工件架上的样品基片可以通过红外灯进行加热，加热温度从室温到150℃程序可调可控；
10.镀膜过程采集用计算机控制，具有样品旋转控制功能、坩埚加热控制功能、坩埚挡板控制与开启功能、膜厚测试挡板控制与开启功能、真空度的采集功能。
二、系统组成
该蒸镀设备主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试及比对板系统、蒸发舟挡板系统、台架系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及计算机控制系统、辅助系统等组成。
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