PLD-300 超高真空脉冲激光溅射沉积室系统
一、主要用途：保密。二、技术指标：1.激光溅射沉积室，极限真空度优于：8.0×10-8Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-4Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s；2.样品室极限真空度优于：8.0×10-4Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-3Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s；3.样品架可加热及连续旋转，加热温度：800ºC±1ºC，旋转速度为：0～30转/分，样
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详细介绍
一、主要用途：保密。
二、技术指标：
1. 激光溅射沉积室，极限真空度优于：8.0×10-8Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-4Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s；
2. 样品室极限真空度优于：8.0×10-4Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-3Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s；
3. 样品架可加热及连续旋转，加热温度：800ºC±1ºC ，旋转速度为：0～30转/分，样品最大尺寸为Ф30㎜一个（可放置4个5mm×5mm的样品）；
4. 靶材尺寸：Ф20×3㎜，尺寸可调；共四块，四块靶材可公转换位同时靶材可自转，自转速度为：0～30转/分，连续旋转，计算机控制；
5. 样品与靶之间的距离为25mm～100mm，样品与靶之间的夹角为30°；
6. 计算机控制系统：主要实现样品的旋转控制功能、靶的换位与自转控制功能、样品挡板的开启控制功能、样品加热控制与采集功能、真空的采集功能。
三、设备组成：主要由激光沉积室、样品室、真空抽气及测量系统、样品台及加热旋转系统、激光旋转靶台系统、窗口与法兰组件系统、电控系统、配气系统、辅助系统等部分组成。
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