光耦合场发射测试台
一、设备用途：用于各种材料和微纳米结构的场发射性能测试。二、设备主要技术指标：1、采用单室结构，不锈钢材料，球形结构；2、空载情况：极限真空优于8×10-7 Pa，真空度优于1×10-5 Pa；安装三维可动载物台时，和光纤馈入法兰时，真空度优于5×10-4 Pa； 系统漏率为：1×10-8PaL/s（无氧铜密封情况下）；3、腔内载物台：数量：1个，样品最大尺寸为5cm×5cm，要求三维可动，XY
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详细介绍
一、技术指标：
1、采用单室结构，不锈钢材料，球形结构；
2、空载情况：极限真空优于8×10-7Pa，真空度优于1×10-5Pa；安装三维可动载物台时，和光纤馈入法兰时，真空度优于5×10-4Pa；
系统漏率为：1×10-8PaL/s（无氧铜密封情况下）；
3、高压探针：腔内设置有高压探针，且高压探针与样品之间间距可调；
4、电极法兰盘：数量：1个，规格：10针；另设置CF63高压电极法兰，2芯，高压电极可耐压>5000V；
5、激光引入方式：要求同时配备两种引入方式：I.通过有光纤接口的法兰；II.通过石英光学窗；
二、系统组成：
该系统主要由真空室、真空抽气及测量系统、样品台系统、窗口与法兰组件系统、烘烤照明系统、电控系统、辅助系统等部分组成。
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