微波等离子体（BEH2,BED2制备系统）
一、主要用途: 通过微波产生等离子,制备氯、氢的铍化物。二、技术指标:1.极限真空：6.7×10-5Pa，工作真空：6.7×10-4Pa（2h）；2.样品台：有效尺寸Φ75mm；升降距离50mm；最高可加热至300℃，控温精度±1℃，温度可控可设可调；3.坩埚蒸发温度：最高1400℃；控温精度±8℃；4.样品升降距离：±50mm；5.两路质量流量计控制，流量范围：一路0～100sccm；一路0～
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一、主要用途:
通过微波产生等离子,制备氯、氢的铍化物。
二、技术指标:
1. 极限真空：6.7×10-5Pa，工作真空：6.7×10-4Pa（2h）；
2. 样品台：有效尺寸Φ75mm；升降距离50mm；最高可加热至300℃，控温精度±1℃，温度可控可设可调；
3. 坩埚蒸发温度：最高1400℃；控温精度±8℃；
4. 样品升降距离：±50mm；
5. 两路质量流量计控制，流量范围：一路0～100sccm；一路0～20sccm；
6. 微波源：微波频率2.45GHz，输出功率：0～500W，脉冲连续可调。
三、系统组成:
主要由真空机组、真空主室、真空副室、样品台（可升降、加热、水冷）、微波源、气路系统、喷射小孔及挡板、加热控温系统、Be蒸气加热系统、电控系统、台架等组成。
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